菅野卓雄の出身高校

菅野卓雄 学者

菅野卓雄卒業高校
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性別
男性
生年月日
1931年8月25日生まれ

菅野 卓雄(すがの たくお、1931年8月25日 - )は日本の電子工学者。固体エレクトロニクス分野、特に電界効果トランジスタに関する研究を行い、その後の大規模集積回路の微細化につながる基礎を確立した。

シリコンMOS電界効果トランジスタの創成期である1960年代前半から、半導体層と酸化膜層との界面に関する基礎的研究を理論及び実験双方から行った。主な成果として、以下のようなものが挙げられる。

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